中国工程院官网“院士馆”栏目近日更新信息显示,中国工程院外籍院士、美国国家工程院院士、国际有名的微电子科学技能与半导体器件专家和教诲家施敏于2023年11月6日去世。

中国侨网援引美国《旧金山纪事报》发布的讣告称,施敏于11月6日安详离世,享年87岁。
讣告中称,他的非凡生平以及对电子和半导体器件天下的贡献,将被铭记和珍惜。

施敏的生平业绩_中国工程院外籍院士施敏去世被称为半导体一代宗师 论文范文

施敏被誉为“半导体一代宗师”。
中国工程院官网先容称,施敏是非挥发MOS场效应影象晶体管(NVSM)的发明者,在金半打仗、微波器件及次微米金属半场效应晶体技能等领域都有首创性的贡献,在电子元件领域做出了根本性及前瞻性贡献。

公开资料显示,施敏1936年3月生于中国南京,在中国台湾终年夜,1957年毕业于中国台湾大学电机系,1960年在美国华盛顿大学获电机工程硕士,1963年在美国斯坦福大学获电机工程博士,系美国国籍。
他于1967年在美国与姜大元博士共同创造浮栅存储(FGM)效应,是广泛运用的快闪存储器之核心发明。

在半导体设备,尤其是半导体打仗,微波器件和金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)技能的研发中,施敏的贡献具有奠基性和首创性的意义。
尤其是他参与研发的非易失落性半导体存储器(NVSM),影响深远,随之出身了包括闪速储存器和电可擦只读储存器(EEPROM)在内的大量储存设备。

施敏还撰写了具有传奇色彩的研究专著《半导体器件物理学》。
这是一本环球半导体和集成电路研究职员“必学”之书,一贯被研究生院西席/学生以及全体电子和光子行业的工程师利用和引用。

2021年9月,施敏摘得2021未来科学大奖三项大奖之一的“数学与打算机科学奖”。
他在现场连线中谈到,“我个人非常希望年轻的人能够从事科学方面的研究,为什么?由于年轻人,尤其在二十几岁到三十几岁时对发明和创造有最高的能力。